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플렉서블 전자기기용 나노전극 및 투명 전도성 필름 기술의 다양한 응용 분야 디스플레이, 웨어러블 디바이스, 태양전지, 전자종이 등 차세대 전자기기의 경량화·유연화 트렌드가 가속화되면서 플렉서블 전자기기용 나노전극과 투명 전도성 필름 기술이 각광받고 있습니다. 기존의 ITO(Indium Tin Oxide) 기반 필름은 우수한 전기 전도성과 투명성을 제공하지만, 깨지기 쉬운 취성(Brittleness)으로 인해 플렉서블 기기에 적용하기에 한계가 있습니다. 이러한 한계를 극복하기 위한 대안으로 다양한 나노소재 기반의 전극 및 필름 기술이 급부상하고 있으며, 본문에서는 그 구체적인 응용 분야와 기술적 가치에 대해 자세히 살펴보겠습니다. 1. 차세대 플렉서블 디스플레이를 위한 투명 전극 기술 플렉서블 OLED, 마이크로LED, 퀀텀닷 디스플레이 등의 차세대 디스플레이는 곡면, 롤러블, .. 2025. 4. 16.
웨어러블 디바이스를 위한 나노센서 소자 집적 기술과 응용 분야 웨어러블 디바이스는 건강 모니터링, 운동 추적, 생체 신호 분석 등 다양한 영역에서 활용도가 빠르게 증가하고 있습니다. 이러한 소형화된 디바이스에서 정밀한 측정을 가능하게 하는 핵심 기술 중 하나가 바로 나노센서 소자의 집적 기술입니다. 초소형이면서도 고감도, 저전력, 고신뢰성을 갖춘 나노센서를 웨어러블 기기에 효율적으로 집적하기 위한 기술은 나노공정, 회로 집적, 소재 응용 등 여러 첨단 분야의 융합을 필요로 합니다. 이번 글에서는 이 나노센서 집적 기술의 다양한 응용 분야를 상세히 살펴봅니다. 1. 바이오헬스케어 웨어러블 기기에서의 나노센서 응용 웨어러블 디바이스는 개인의 건강 상태를 실시간으로 모니터링할 수 있는 핵심 기술로 각광받고 있으며, 나노센서는 그 중심에 있습니다. 특히, 땀, 체온, 심박.. 2025. 4. 16.
나노입자 기반 CMP 슬러리의 고정밀화 기술과 응용 분야 CMP(Chemical Mechanical Planarization) 공정은 반도체 제조의 핵심 중 하나로, 웨이퍼 표면을 원자 수준의 평탄도로 연마하는 정밀 공정입니다. 특히 최근 미세공정이 3nm 이하로 진입함에 따라, CMP 슬러리의 정밀도는 반도체 소자의 수율과 성능을 좌우하게 되었습니다. 이때 고정밀화를 위한 나노입자 기반 CMP 슬러리는 기존 마이크로입자 슬러리에 비해 우수한 평탄화 능력, 저결함성, 높은 재현성을 제공하여 다양한 분야에서 적용되고 있습니다. 1. 차세대 반도체 소자를 위한 정밀 평탄화 기술 미세공정이 진화할수록 웨이퍼 표면의 평탄화 수준에 대한 요구는 극단적으로 높아집니다. 특히 Gate-All-Around(GAA) FET, FinFET, 3D-NAND와 같은 고집적 소자에서.. 2025. 4. 16.
반도체 패키징에서의 나노계면 재료 기술: 미래 전자기기의 핵심 기반 1. 고신뢰성 인터커넥션을 위한 나노계면 재료의 역할 반도체 패키징 기술에서 가장 중요한 요소 중 하나는 반도체 칩과 기판, 혹은 이종 재료 간의 전기적·기계적 연결을 얼마나 안정적으로 유지할 수 있느냐입니다. 특히, 미세화와 고집적화가 가속화되면서 계면에서의 물리적·화학적 특성은 패키지 전체 신뢰성을 좌우하게 되었습니다. 이러한 상황에서 **나노계면 재료(nano-interfacial materials)**는 기존 솔더 재료나 접착제 대비 월등한 성능을 보이며 주목받고 있습니다. 예를 들어, 나노은(nano-silver) 입자가 포함된 접합 재료는 낮은 온도에서도 우수한 접합 강도와 열전도 특성을 제공해 고출력 및 고주파 디바이스에 이상적인 솔루션으로 사용됩니다. 또한 계면에서의 확산, 산화, 갈라짐을.. 2025. 4. 15.
나노광학 기술을 활용한 반도체 리소그래피의 미래기술과 응용 분야 1. 나노광학 기반 극자외선(EUV) 리소그래피의 진화 극자외선(EUV) 리소그래피는 반도체 미세공정에서 가장 중요한 차세대 기술 중 하나로, 기존의 DUV(Deep Ultraviolet) 방식보다 훨씬 짧은 13.5nm 파장을 활용하여 5nm 이하의 선폭을 정밀하게 패터닝할 수 있습니다. 나노광학 기술은 이 EUV 리소그래피에서 핵심적인 역할을 수행합니다. 예를 들어, EUV 광원과 광학계를 구성하는 미러, 필터, 마스크는 모두 나노미터 단위의 표면 조도와 정밀도를 요구하며, 이러한 구성 요소들은 나노광학적 특성을 기반으로 제작되어야 합니다. 특히 다층 거울(multilayer mirror)의 반사 효율을 극대화하기 위한 광간섭 구조 설계, 광 흡수 최소화를 위한 나노두께 코팅 기술 등이 적용됩니다. .. 2025. 4. 15.
나노소재 기반 차세대 비휘발성 메모리(NVM) 기술의 다양한 응용 분야 1. 기존 NVM의 한계를 뛰어넘는 나노소재 기반 구조 설계 기존의 비휘발성 메모리(NVM) 기술, 특히 NAND 플래시 메모리는 그동안 모바일 기기, SSD, 임베디드 시스템 등에서 주력 저장 장치로 사용되어 왔습니다. 그러나 공정 미세화의 한계와 셀 간 간섭, 쓰기 속도 저하, 내구성 문제는 향후 고집적화 및 고속화에 있어 커다란 제약이 됩니다. 이에 따라 나노소재 기반의 새로운 NVM 구조가 주목받고 있습니다. 대표적으로 2D 재료인 그래핀, 전이금속 칼코게나이드(MoS₂ 등), 나노와이어, 나노튜브 등을 활용한 구조가 연구되고 있으며, 이들은 원자 수준의 두께와 높은 전기전도성, 뛰어난 열적·기계적 안정성을 제공함으로써 기존 셀 구조의 한계를 극복할 수 있습니다. 특히 셀 내부에서의 누설 전류 감.. 2025. 4. 15.